Инструменты нанотехнологий

TFS200. Лабораторно-промышленная система для формирования тонких пленок на основе ALD-технологий

TFS200 — ALD система, предназначенная для исследовательских и опытно-промышленных целей. Позволяет наносить различные покрытия на основе органических и неорганических материалов на плоские подложки и на сложные 3D структуры. В качестве источников реагентов могут использоваться газы, жидкости или твердые материалы.

TFS 200 разработана для формирования тонких пленок (от 1 атомного слоя) на пластинах, гранулах порошкообразных материалах, пористых и 3D подложках, имеет различные модификации и может быть оборудована ручным устройством загрузки пластин.

TFS 200 имеет модульную структуру и удовлетворяет требованиям по совместимости и надежности, что подтверждено европейскими сертификатами СЕ.

В качестве источников реагентов могут использоваться газообразные, жидкие и твердые вещества. Количество источников варьируется от двух до числа, необходимого заказчику.

Система проста в эксплуатации и обслуживании.

Преимущества

  • удобство и простота использования;
  • небольшие габариты;
  • легко модернизируется и модифицируется;
  • предусмотрена возможность установки дополнительного оборудования;
  • система совместима с чистыми помещениями;
  • компактные источники реагентов с полуавтоматической загрузкой;
  • вентилируемый бокс с реагентами;
  • все электрические компоненты внутри специального блока, который стоит отдельно
  • камера имеет охлаждаемые стенки, специальная конструкция камеры обеспечивает эффективный расход энергии, быстрый нагрев и охлаждение.

Обслуживание и совместимость

  • реакционные камеры могут быть заменены без применения специального оборудования;
  • модульная конструкция позволяет легко заменять реакционные камеры, источник и трубопроводы;
  • удобные небольшие химические контейнеры и простая их замена;
  • ручная load-lock система для быстрой обработки пластин;
  • легкий доступ к обслуживаемым объектам;
  • все внешние панели легко снимаются для удобства обслуживания.
Основные технические характеристики
Характеристика Значение
Размеры стандартной реакционной камеры (по требованию заказчика ) камера для пластин до ∅ 200 мм;
камера для 3D подложек 200 x 100 мм (∅ x H)
Максимальное количество источников реагентов 8 газов (включая озон), 3 жидкости, 2-4 нагреваемых источника в зависимости от максимальной температуры нагрева
Максимальная температура осаждения 500°C
Давление в реакторе 1–5 мбар
Габаритные размеры 1200 x 600 x 1200 мм
Вес 400 кг + 150 кг (блок управления)
Мощность 4 000 Ватт
Система управления Программируемый логический контроллер (PLC) с интерфейсом для ПК

Дополнительные опции

  • Генератор плазмы, генератор озона, генератор азота, аксессуары и т.д.

Информация предоставлена НПО «КвинтТех», Бенек (Beneq), ООО

Отправить сообщение представителю компании

2 9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Z А Б В Г Д Е И К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Э ВСЕ