Инструменты нанотехнологий

PECVD SI 500 PPD. Установка плазменного осаждения диэлектриков с вакуумным загрузочным шлюзом

SI 500 PPD Parallel Plate PECVD Deposition System — установка плазмо-химического осаждения диэлектриков с параллельными пластинами (PECVD) производства SENTECH Instruments GmbH (Германия).

Система плазмо-химического осаждения диэлектриков SI 500 PPD Parallel Plate PECVD Deposition System предназначена для использования в НИОКР для реализации процессов плазмо-химического осаждения диэлектрических пленок (SiO2, Si3N4, SiOx, SiOxNy) на различные подложки.

Преимущества

  • Превосходная однородность, прекрасная воспроизводимость при осаждении диэлектриков
  • Вакуумный загрузочный шлюз
  • Операции контролируются компьютером
  • Программное обеспечение SENTECH Software
  • Диаметр обрабатываемых пластин до 200 мм
  • Установка через стену (опция)
  • Кассетная станция
  • Эллипсометр in-situ (определение толщины осаждаемого слоя)

Конфигурация системы

  • Источник ВЧ смещения (13,56 МГц, 600 Вт)
  • Душевая система распыления реакционных газов
  • 6 газовых линий с датчиками массового расхода MFC (SiH4, NH3, N2O, O2, Ar, CF4)
  • Высокопроизводительная вакуумная система с контролем давления независимого от натекания газа
  • Вакуумный загрузочный шлюз
  • Изолированный охлаждаемый или нагреваемый (20°C up to 350°C) электрод для работы с пластинами или держателями диаметром до 200 мм. (2,3,4,6 дюймов, кусочки)
  • Динамический контроль температуры
  • Удаленный контроль
  • Управление под операционной системой Windows XP
  • Программное обеспечение SENTECH для управления процессами и всеми узлами системы

Опции

  • Кассетная станция (cassette to cassette)
  • Установка через стену (Through-the-wall installation)
  • Лазерная и спектроскопическая in-situ эллипсометрия (SE401 и SE801)

Информация предоставлена МИНАТЕХ, ООО

Отправить сообщение представителю компании

2 9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Z А Б В Г Д Е И К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Э ВСЕ