Инструменты нанотехнологий

NanoMaker. Электронно-литографиическая система

Компания «Интерфейс» предлагает литографическую систему NanoMaker для проектирования 2D и 3D наноструктур и их изготовления на электронных (SEM), ионных (FIB) микроскопах и промышленных литографах.

Электронно-литографиическая система NanoMaker предоставляет уникальные методы и технологии для создания микро- и наноструктур, проверенные более чем 20-ти летним опытом эксплуатации:

  • содержит графический редактор, позволяющий проектировать иерархические литографические структуры практически любого размера и любой сложности;
  • оптимизирует дозу (время) экспонирования, учитывая эффект близости для 2D/3D структур и рассчитывает другие параметры процесса таким образом, что гарантирует 100% результат за одну литографию;
  • моделирует проявление резиста;
  • компенсирует дисторсию отклоняющей системы микроскопа при работе в большом поле;
  • значительно сокращает общее время экспонирования за счет активной компенсации динамических ошибок отклоняющей системы микроскопа;
  • позволяет экспонировать без бланкера;
  • включает Монте Карло моделирование для расчета параметров эффекта близости в случае многослойных подложек;
  • может использоваться как диагностический инструмент для получения с высоким разрешением панорамных изображений поверхности пространных микро-объектов. Например, для фотографирования топологии при обратном проектировании Интегральных Схем (IC);
  • легко устанавливается на сканирующие электронные микроскопы (JEOL, FEI, ZEISS, HITACHI, LEO, PHILIPS, TESCAN); установки с острым ионным пучком (FIB);
  • сделан в России.

Назначение и задачи

NanoMaker предназначен для решения следующих задач:

  • предоставить пользователю мощную, универсальную и удобную систему для преобразование любого сканирующего электронного или ионного микроскопа в литограф;
  • обеспечить достижение предельного литографического разрешения на конкретном приборе и с этой целью:
    • осуществлет коррекцию эффекта близости в процессе подготовки данных для литографии;
    • позволяет прогнозировать и оптимизировать результы литографии посредством моделирования проявления резиста;
    • компенсирует ошибки отклоняющей системы при экспонировании и снятии изображений;
    • легко адаптируется под различные конфигураций литографического оборудования, учитывая системы бланкирования луча, моторизованные столы и т.д.
  • создавать трехмерные структуры в резисте с использованием дозовых кривых;
  • обеспечить расширенные возможности при проектировании голограмм и киноформных приложений;
  • способствовать ознакомлению пользователей с основными принципами литографии за счет интуитивно-понятного интерфейса, логичной последовательности операций и прочной теоретической основы.

Области применения

  • Микроэлектроника
  • Нанотехнологии, нанофизика
  • 3D нано- и микроструктурирование
  • MEMS (микро-электромеханические системы)
  • MOEMS (микро-оптоэлектромеханические системы)
  • Дифракционная оптика (синтезированные голограммы) для видимого и рентгеновского диапазона, включая радужные голограммы
  • Микромашининг, микрофлюидика

Информация предоставлена Интерфейс, УКЦ

Отправить сообщение представителю компании

2 9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Z А Б В Г Д Е И К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Э ВСЕ