Инструменты нанотехнологий

MicroPG 501. Установка безмасковой литографии

МИНАТЕХ предлагает настольную лабораторную установку высокоскоростной безмасковой литографии mPG 501 для производства фотошаблонов и прямого формирования изображения производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).

MicroPG 501 — настольная модель высокоскоростной безмасковой литографии с внушительными возможностями по доступной цене — является прекрасным решением для изготовления MEMS, интегральной оптики, микрофлюидики, лабораторных исследований в области создания чипов, производства фотошаблонов, опытного производства и НИОКР.

Генератор изображения Heidelberg microPG 501 является компактным бюджетным решением для лабораторий и мелкосерийных производств. Несмотря на свою компактность, установка справляется со всеми задачами, которые выполняют более крупные модели генераторов и даже быстрее. Установка может использоваться для производства фотошаблонов, а также для получения топологических структур на прочих пластинах с фоторезистом при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики и др.

Система имеет возможности экспонировать (писать) структуры с размерами до 1 мкм или 2 мкм при скорости 50 мм2/мин или 100 мм2/мин соответственно, что эквивалентно времени экспонирования шаблона размером 2х2 дюйма менее чем за один час. Интегрированная эксперт-программа экспонирования (GUI) проводит оператора через всю процедуру включающую загрузку подложки, выбор дизайна и начала экспонирования. MicroPG 501 была сконструирована также для встраивания в самые маленькие лаборатории и R&D центры и требует только электрического питания и подачи сжатого воздуха для управления.

MicroPG 501 оборудована высокомощным LED источником света, обеспечивающим исключительную надежность и очень длительный срок службы. Доступны длины волн 390 нм и 405 нм или 375 нм твердотельный UV LED источник для UV резистов (SU8). Другие длины волн также могут быть доступны по запросу.

MicroPG 501 может экспонировать стандартный позитивный и негативный фоторезисты, а также UV-резист такой как, например, SU8. Система может работать и применима для толстых резистов. Используя усовершенствованную технологию режима полутоновой шкалы экспонирования (Gray Scale Exposure) установка MicroPG 501 имеет возможность создавать трехмерные структуры (3D exposure), такие как дифракционные решетки или микролинзы.

Для обеспечения высокоточного перемещения луча генератор оборудован специальной оптической системой и системой позиционирования подложки.
Для обеспечения наилучшей разрешающей способности генератор оборудован системой автофокусировки с подстройкой пьезомодулем и системой модуляции луча с помощью акустооптического модулятора.
Для перемещения подложки в горизонтальной плоскости есть специальная система позиционирования.
Технические характеристики:
  • Минимальный топологический размер 1 мкм или 2 мкм (на выбор)
  • Размер обрабатываемых подложек и пластин до 6х6 дюймов
  • Минимальный размер подложки 6х6 мм
  • Размер поля экспонирования до 125х125 мм
  • Адресная сетка до 50 нм при минимальном топологическом размере до 1 мкм
  • Адресная сетка до 100 нм при минимальном топологическом размере до 2 мкм
  • Растровое экспонирование и 3D экспонирование (Gray Scale Exposure Mode) до 128 уровней
  • Скорость экспонирования для области — 50 мм2/мин и 100 мм2/мин
  • Толщина подложки до 6 мм
  • Погрешность позиционирования подложки: 20 нм
  • Габаритные размеры: 630 х 770 х 530 мм, вес 120 кг
  • Стабильность поддержания температуры ±1°С
  • Требуемый уровень влажности: 50%±10%
  • Энергопотребление: 230 VAC±5%, 50/60 Hz, 6 A
  • Класс чистоты комнаты: ISO 6 (1000) или лучше
Режимы формирования рисунка micorPG 501
Режим работы I II
Размер адресной сетки, нм 50 100
Минимальный размер элемента с использованием LED-источника (390 нм), мкм 1,0 2,0
Минимальный размер элемента с использованием UV LED-источника (375 нм), мкм 1,5 3,0
Скорость рисования, мм2/мин 50 100
Неровность края (3σ), нм 100 150
Равномерность (3σ), нм 200 300
Точность совмещения (3σ), нм 200 400
Область письма (экспонирования), мм 125 х 125 125 х 125
Источники излучения:
Высоко мощный LED источник — 390 нм или 405 нм, 10 Вт, 10000 часов
По заказу другие длины волн.
Базовая комплектация:
Основной блок
Рама с подавлением внешних вибраций
Оптическая система
Калибровочная система автофокусировки
Растровое и 3D экспонирование (Gray Scale Exposure Mode) до 128 уровней
Система позиционирования подложки
Персональный компьютер пользователя и ПО
Опции:
Пишущая голова — 2 мкм
Антивибрационный стол

Информация предоставлена МИНАТЕХ, ООО

Отправить сообщение представителю компании

2 9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Z А Б В Г Д Е И К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Э ВСЕ