Российская национальная нанотехнологическая сеть

Запомнить меня / Регистрация / Забыли пароль?
Поиск
Войти
Регистрация
Написать письмо
Карта сайта

Инструменты нанотехнологий

Главная страница / Каталог оборудования / MAPLE-2H

MAPLE-2H. Система фотолюминесцентного картографирования

Поставщик:
- Интеллект, ООО
Рубрикатор:
- Люминесцентная спектроскопия
- Спектрофотометрия

MAPLE-2H является 4-ым поколение ручных систем фотолюминесцентного картографирования (PL mapping), предназначенных для использования при производстве светоизлучающих диодов (LED).

Система MAPLE-2H помимо высокой скорости работы, производительности, надежности, безопасности обладает рядом качеств, выделяющих установку среди конкурентов:

высокая скорость картографирования,
спектрометрический контроль, а также возможность выбора различных лазеров,
универсальные сменные фотофильтры и возможность управления нейтральным светофильтром,
одновременные измерения и анализ фотолюминесценции, толщины пленки и коэффициента отражения,
разделение двойного ФЛ-пика,
возможность редактирования параметров измерительного приемника,
функция исключения края,
высочайшее разрешение управления шагом (0,1/0,5/1/2/4 мм),
тихая работа моторизованного столика,
использование высокочувствительного линейного массива ПЗС-детекторов,
автоматической мониторинг мощности лазера,
запись истории работы,
контроль безопасности пользователя,
фильтрация преобразованием Фурье для удаления не желаемых сбоев,
возможность наблюдения за образцом с помощью ПЗС-камеры,
управление путем луча,
управление мощностью лазера.

Применение

Контроль качества при производстве светодиодов (LED)
Контроль качества при производстве лазерных диодов
Фотолюминесцентное картографирование эпитаксиальных структур
Общие фотолюминесцентные измерения
Измерения фотолюминесценции материалов группы А3В5
Измерение толщины тонких пленок
Флюоресценция

Спецификация системы

Спектрометр (VIS/NIR)

Спектрометр VIS (ВИД)

Низкошумная ПЗС линейка 2048 (3648 опционально) пикселей
Диапазон длин волн 200~1100 нм
Разрешение 1 нм при щели 10 мкм с 600 гр/мм

Спектрометр NIR (БИК)

Низкошумная ПЗС линейка 512 пикселей
Диапазон длин волн 900~1700 нм
Разрешение 2 нм при щели 10 мкм с 150 гр/мм

Лазер

Доступные длины волн (опционально): 266 нм, 325 нм, 375 нм, 405 нм, 442 нм, 532 ннм, 658 нм, 785 нм, 1064 нм
Максимальное количество лазеров (опционально): до 3 лазеров
Возможность управления мощностью с ПК зависит от модели лазера
Мониторинг с помощью ПО интерфейса

Устройство измерения толщины пленки (опционально)

Принцип Рефлектометрия
Источник света Вольфрамовая галогеновая лампа (100 Вт)
Диапазон толщин пленки 1–15 мкм
Разрешение 1 мкм

Высокоскоростной моторизованный стол

Загрузка Ручная загрузка на вакуумный держатель
Ориентация Оси X, Y
Разрешение 0,2 мм
Поддерживаемые размеры пластин 2', 4', 6', 8' (опционально)
Скорость картографирования (в зависимости от типа спектрометра)
- VIS: 2' 30 сек. при шаге 2 мм, экспозиции 30 мс
- NIR: 2' 40 сек. при шаге 2 мм, экспозиции 30 мс

Программное обеспечение

Протокол управления SECS-GEM
Аналитические параметры Пик λ
- преобладающая λ пиковая интенсивность,
- полная ширина на уровне половинной амплитуды (FWHM),
- интегральная интенсивность,
- толщина (опционально),
- коэффициент отражения (опционально)
Измерения ФЛ, толщины, коэффициента отражения
Одновременные измерения (опционально)
Точность измерения ФЛ < 1 нм

Система обработки данных