Инструменты нанотехнологий

MAPLE-2H. Система фотолюминесцентного картографирования

MAPLE-2H является 4-ым поколение ручных систем фотолюминесцентного картографирования (PL mapping), предназначенных для использования при производстве светоизлучающих диодов (LED).

Система MAPLE-2H помимо высокой скорости работы, производительности, надежности, безопасности обладает рядом качеств, выделяющих установку среди конкурентов:

  • высокая скорость картографирования,
  • спектрометрический контроль, а также возможность выбора различных лазеров,
  • универсальные сменные фотофильтры и возможность управления нейтральным светофильтром,
  • одновременные измерения и анализ фотолюминесценции, толщины пленки и коэффициента отражения,
  • разделение двойного ФЛ-пика,
  • возможность редактирования параметров измерительного приемника,
  • функция исключения края,
  • высочайшее разрешение управления шагом (0,1/0,5/1/2/4 мм),
  • тихая работа моторизованного столика,
  • использование высокочувствительного линейного массива ПЗС-детекторов,
  • автоматической мониторинг мощности лазера,
  • запись истории работы,
  • контроль безопасности пользователя,
  • фильтрация преобразованием Фурье для удаления не желаемых сбоев,
  • возможность наблюдения за образцом с помощью ПЗС-камеры,
  • управление путем луча,
  • управление мощностью лазера.

Применение

  • Контроль качества при производстве светодиодов (LED)
  • Контроль качества при производстве лазерных диодов
  • Фотолюминесцентное картографирование эпитаксиальных структур
  • Общие фотолюминесцентные измерения
  • Измерения фотолюминесценции материалов группы А3В5
  • Измерение толщины тонких пленок
  • Флюоресценция

Спецификация системы

Спектрометр (VIS/NIR)
Спектрометр VIS (ВИД)
  • Низкошумная ПЗС линейка 2048 (3648 опционально) пикселей
  • Диапазон длин волн 200~1100 нм
  • Разрешение 1 нм при щели 10 мкм с 600 гр/мм
Спектрометр NIR (БИК)
  • Низкошумная ПЗС линейка 512 пикселей
  • Диапазон длин волн 900~1700 нм
  • Разрешение 2 нм при щели 10 мкм с 150 гр/мм
Лазер
  • Доступные длины волн (опционально): 266 нм, 325 нм, 375 нм, 405 нм, 442 нм, 532 ннм, 658 нм, 785 нм, 1064 нм
  • Максимальное количество лазеров (опционально): до 3 лазеров
  • Возможность управления мощностью с ПК зависит от модели лазера
  • Мониторинг с помощью ПО интерфейса
Устройство измерения толщины пленки (опционально)
  • Принцип Рефлектометрия
  • Источник света Вольфрамовая галогеновая лампа (100 Вт)
  • Диапазон толщин пленки 1–15 мкм
  • Разрешение 1 мкм
Высокоскоростной моторизованный стол
  • Загрузка Ручная загрузка на вакуумный держатель
  • Ориентация Оси X, Y
  • Разрешение 0,2 мм
  • Поддерживаемые размеры пластин 2', 4', 6', 8' (опционально)
  • Скорость картографирования (в зависимости от типа спектрометра)
    • VIS: 2' 30 сек. при шаге 2 мм, экспозиции 30 мс
    • NIR: 2' 40 сек. при шаге 2 мм, экспозиции 30 мс
Программное обеспечение
  • Протокол управления SECS-GEM
  • Аналитические параметры Пик λ
    • преобладающая λ пиковая интенсивность,
    • полная ширина на уровне половинной амплитуды (FWHM),
    • интегральная интенсивность,
    • толщина (опционально),
    • коэффициент отражения (опционально)
  • Измерения ФЛ, толщины, коэффициента отражения
  • Одновременные измерения (опционально)
  • Точность измерения ФЛ < 1 нм
Система обработки данных
  • Основная плата Intel Core2DUO E7500 (2,93 ГГц) 2 Гб
  • Дисплей Диагональ 21', full HD, LED
Механические характеристики
  • Физические размеры (ШхВхГ) 800х600х800 мм
  • Масса оборудования < 80 кг
  • Вакуум 50–60 мм.рт.ст.
Электрические характеристики
  • Входное напряжение 1 фаза, 220 (± 10%), 60 Гц
  • Полная потребляемая мощность 2,5 кВт
Характеристики помещения
  • Чистое помещение Класс 10000
  • Температура 15~35°С
  • Влажность < 80% о.в. без конденсации
  • Безопасность Интерлок двери

Информация предоставлена Интеллект, ООО

Отправить сообщение представителю компании

2 9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Z А Б В Г Д Е И К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Э ВСЕ