MAPLE-2H является 4-ым поколение ручных систем фотолюминесцентного картографирования (PL mapping), предназначенных для использования при производстве светоизлучающих диодов (LED).
Система MAPLE-2H помимо высокой скорости работы, производительности, надежности, безопасности обладает рядом качеств, выделяющих установку среди конкурентов:
- высокая скорость картографирования,
- спектрометрический контроль, а также возможность выбора различных лазеров,
- универсальные сменные фотофильтры и возможность управления нейтральным светофильтром,
- одновременные измерения и анализ фотолюминесценции, толщины пленки и коэффициента отражения,
- разделение двойного ФЛ-пика,
- возможность редактирования параметров измерительного приемника,
- функция исключения края,
- высочайшее разрешение управления шагом (0,1/0,5/1/2/4 мм),
- тихая работа моторизованного столика,
- использование высокочувствительного линейного массива ПЗС-детекторов,
- автоматической мониторинг мощности лазера,
- запись истории работы,
- контроль безопасности пользователя,
- фильтрация преобразованием Фурье для удаления не желаемых сбоев,
- возможность наблюдения за образцом с помощью ПЗС-камеры,
- управление путем луча,
- управление мощностью лазера.
Применение
- Контроль качества при производстве светодиодов (LED)
- Контроль качества при производстве лазерных диодов
- Фотолюминесцентное картографирование эпитаксиальных структур
- Общие фотолюминесцентные измерения
- Измерения фотолюминесценции материалов группы А3В5
- Измерение толщины тонких пленок
- Флюоресценция
Спецификация системы
- Спектрометр (VIS/NIR)
- Спектрометр VIS (ВИД)
- Низкошумная ПЗС линейка 2048 (3648 опционально) пикселей
- Диапазон длин волн 200~1100 нм
- Разрешение 1 нм при щели 10 мкм с 600 гр/мм
- Спектрометр NIR (БИК)
- Низкошумная ПЗС линейка 512 пикселей
- Диапазон длин волн 900~1700 нм
- Разрешение 2 нм при щели 10 мкм с 150 гр/мм
- Лазер
- Доступные длины волн (опционально): 266 нм, 325 нм, 375 нм, 405 нм, 442 нм, 532 ннм, 658 нм, 785 нм, 1064 нм
- Максимальное количество лазеров (опционально): до 3 лазеров
- Возможность управления мощностью с ПК зависит от модели лазера
- Мониторинг с помощью ПО интерфейса
- Устройство измерения толщины пленки (опционально)
- Принцип Рефлектометрия
- Источник света Вольфрамовая галогеновая лампа (100 Вт)
- Диапазон толщин пленки 1–15 мкм
- Разрешение 1 мкм
- Высокоскоростной моторизованный стол
- Загрузка Ручная загрузка на вакуумный держатель
- Ориентация Оси X, Y
- Разрешение 0,2 мм
- Поддерживаемые размеры пластин 2', 4', 6', 8' (опционально)
- Скорость картографирования (в зависимости от типа спектрометра)
- VIS: 2' 30 сек. при шаге 2 мм, экспозиции 30 мс
- NIR: 2' 40 сек. при шаге 2 мм, экспозиции 30 мс
- Программное обеспечение
- Протокол управления SECS-GEM
- Аналитические параметры Пик λ
- преобладающая λ пиковая интенсивность,
- полная ширина на уровне половинной амплитуды (FWHM),
- интегральная интенсивность,
- толщина (опционально),
- коэффициент отражения (опционально)
- Измерения ФЛ, толщины, коэффициента отражения
- Одновременные измерения (опционально)
- Точность измерения ФЛ < 1 нм
- Система обработки данных
- Основная плата Intel Core2DUO E7500 (2,93 ГГц) 2 Гб
- Дисплей Диагональ 21', full HD, LED
- Механические характеристики
- Физические размеры (ШхВхГ) 800х600х800 мм
- Масса оборудования < 80 кг
- Вакуум 50–60 мм.рт.ст.
- Электрические характеристики
- Входное напряжение 1 фаза, 220 (± 10%), 60 Гц
- Полная потребляемая мощность 2,5 кВт
- Характеристики помещения
- Чистое помещение Класс 10000
- Температура 15~35°С
- Влажность < 80% о.в. без конденсации
- Безопасность Интерлок двери
Информация предоставлена Интеллект, ООО
Отправить сообщение представителю компании
* Поля, обязательные для заполнения
