Сортировать: по рейтингу | по названию | по дате поступления | по популярности

Поиск по производителю

Производитель: SENTECH Instruments GmbH

SENTECH Instruments GmbH — компания, которая занимается разработкой и производством систем плазмо-химического травления (RIE, ICP-RIE), плазмо-химического осаждения диэлектриков (PECVD, ICPECVD), а также систем метрологии тонких пленок для измерения толщины и оптических показателей тонких пленок (лазерные эллипсометры, спектроскопичесике эллипсометры, сканирующие эллипсометры, рефлектометры).

Всё оборудование

2

PECVD SI 500 PPD. Установка плазменного осаждения диэлектриков с вакуумным загрузочным шлюзом

Производитель: SENTECH Instruments GmbH

Поставщик: МИНАТЕХ, ООО

Рубрикатор: Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы

Ключевые слова: плазменное осаждение, плазмо-химическое осаждение, микроэлектроника

SI 500 PPD Parallel Plate PECVD Deposition System — установка плазмо-химического осаждения диэлектриков с параллельными пластинами (PECVD) производства SENTECH Instruments GmbH (Германия).

2

SI 500 PTSA ICP Plasma Etcher. Установка реактивно-ионного травления в индуктивно-связанной плазме ICP-RIE

Производитель: SENTECH Instruments GmbH

Поставщик: МИНАТЕХ, ООО

Рубрикатор: Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Оборудование планарных технологий

Ключевые слова: плазменное травление, плазмо-химическое травление, реактивно-ионное травление, микроэлектроника, травление в индуктивно-связанной плазме, ИСП плазма, травление наноструктур

Система травления SI 500 PTSA ICP plasma etcher предназначена для использования в НИОКР для реализации процессов высокоскоростного сухого плазменного травления кремния (в том числе Bosh-процесс), диэлектриков и полупроводниковых структур (особенно III/V и микрооптики) и наноструктур в индуктивно-связанной плазме.

CER SE 500adv. Комбинированный лазерный эллипсометр-рефлектометр

Производитель: SENTECH Instruments GmbH

Поставщик: МИНАТЕХ, ООО

Рубрикатор: Анализ топографии, Лазерные системы, Аналитические системы, Научно-исследовательские комплексы

Ключевые слова: оборудование, микроэлектроника, нанотехнологии, установки плазменного осаждения, эллипсометры

CER SE 500adv — уникальный комбинированный лазерный (сканирующий) эллипсометр-рефлектометр с возможностью проведения измерений пленок под различными углами разработан для высокоточного измерения толщины и оптических характеристик пленочных структур (коэффициент преломления, показатель поглащения) на различных типах поверхностей. Для измерения нанопленок.

Depolab 200. Установка плазменного осаждения диэлектриков без шлюза

Производитель: SENTECH Instruments GmbH

Поставщик: МИНАТЕХ, ООО

Рубрикатор: Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы

Ключевые слова: плазменное осаждение, плазмо-химическое осаждение, микроэлектроника

Depolab 200 — PECVD установка плазмо-химического осаждения диэлектриков без вакуумного загрузочного шлюза (open lid system).

RIE Etchlab 200 Plasma Etcher. Установка реактивно-ионного травления

Производитель: SENTECH Instruments GmbH

Поставщик: МИНАТЕХ, ООО

Рубрикатор: Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Оборудование планарных технологий

Ключевые слова: плазменное травление, плазмо-химическое травление, реактивно-ионное травление, микроэлектроника

Система травления RIE Etchlab 200 Plasma Etcher предназначена для использования в НИОКР для реализации процессов сухого плазменного травления.

SE 400adv. Лазерный эллипсометр

Производитель: SENTECH Instruments GmbH (Германия)

Поставщик: МИНАТЕХ, ООО

Рубрикатор: Анализ топографии, Анализ рельефа поверхности, Лазерные системы, Научно-исследовательские комплексы

Ключевые слова: микроэлектроника, нанотехнологии, полупроводники, аналитическое оборудование, спектрометры, установки плазменного травления, установки плазменного осаждения, эллипсометры, плазменная очистка

SE 400adv — новейший лазерный (сканирующий) эллипсометр с возможностью проведения измерений пленок под различными углами. Прибор разработан для высокоточного измерения толщины и оптических характеристик пленочных структур (коэффициент преломления, показатель поглащения) на различных типах поверхностей. Для измерения нанопленок.

SENDIRA. ИК-Фурье спектроскопическая эллипсометрическая система

Производитель: SENTECH Instruments GmbH

Поставщик: МИНАТЕХ, ООО

Рубрикатор: Анализ проводимости поверхности, Анализ топографии, Приборы для микроанализа поверхности, Анализ рельефа поверхности, Лазерные системы

Ключевые слова: SENDIRA, лазерный эллипсометр, метрология тонких пленок, измерение толщины и оптических характеристик тонких пленок

ИК-Фурье спектроскопическая эллипсометрическая система SENDIRA (инфракрасный спектральный эллиспометр) со спектральным диапазоном от 400 см-1 до 6000 см-1 (1666–25000 нм) и управляемым компьютером моторизованным гониометром.

SENDURO. Автоматическая широковолновая измерительная система на базе спектроскопического эллипсометра

Производитель: SENTECH Instruments GmbH

Поставщик: МИНАТЕХ, ООО

Рубрикатор: Анализ проводимости поверхности, Приборы для микроанализа поверхности, Лазерные системы

Ключевые слова: SENDURO, лазерный эллипсометр, метрология тонких пленок, измерение толщины и оптических характеристик тонких пленок

Высокопроизводительная автоматическая эллипсометрическая измерительная система SENDURO® на базе УФ-ВИД спектроскопического эллипсометра с возможностью сканирования. Спектральный диапазон: 290–850 нм.

SENresearch. Спектроскопические эллипсометры

Производитель: SENTECH Instruments GmbH

Поставщик: МИНАТЕХ, ООО

Рубрикатор: Анализ проводимости поверхности, Анализ топографии, Приборы для микроанализа поверхности, Анализ рельефа поверхности, Лазерные системы

Ключевые слова: SENresearch, SE 800, SE 800E, SE 850, SE 800DUV, SE 850DUV, микроэлектроника, нанотехнологии, полупроводники, аналитическое оборудование, спектрометры, установки плазменного травления, установки плазменного осаждения, эллипсометры, плазменная очистка

SENresearch — серия новейших спектроскопических эллипсометров с диапазоном длин волн от 190 (DUV) до 2500 (IR) нм. специально разработанных для исследований с возможностью проведения измерений толщин одно- и многослойных пленок и пленочных структур под различными углами и для измерения оптических характеристик пленочных структур (коэффициент преломления, показатель поглащения) на различных типах поверхностей в УФ и видимом ИК диапазонах с возможностью расширений спектрального диапазона до 190 — 2500 нм.

2 9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Z А Б В Г Д Е И К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Э ВСЕ