Сортировать: по рейтингу | по названию | по дате поступления | по популярности

Поиск по производителю

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology

Oxford Instruments Plasma Technology (OIPT) — производитель оборудования для проведения плазмохимических процессов, являющийся мировым лидером в своей области.

На установках OIPT реализуются процессы плазмохимического травления и осаждения (ICP, RIE, PECVD), ионно-лучевого травления и осаждения (IBE, CAIBE, IBD), атомно-слоевого осаждения (ALD), эпитаксии из газовой фазы гидридов (HVPE), магнетронного напыления, выращивания наноструктур и анализа отказов. Оборудование используется для иследований и мелкосерийного производства в области полупроводников, прецизионной оптики, оптоэлектроники, микромеханики и нанотехнологии.

OIPT имеет собственную научную лабораторию, что позволяет осуществлять технологическую поддержку клиентов в течение всего периода эксплуатации приобретенного оборудования.

Всё оборудование

12

FlexAL. Система атомно слоевого осаждения (ALD)

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)

Поставщик: Technoinfo Limited, ИНТЕК

Рубрикатор: Атомно-слоевое осаждение

Ключевые слова: ALD-технологии

Система FlexAL предоставляет уникальные возможности для разработки наноразмерных структур и приборов. FlexAL реализует процессы атомно-слоевого осаждения с удаленной плазмой и термическое ALD в максимально гибкой конфигурации. Возможна обработка пластин диаметром вплоть до 200 мм.

10

OpAL. Система атомно слоевого осаждения (ALD)

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)

Поставщик: Technoinfo Limited, ИНТЕК

Рубрикатор: Атомно-слоевое осаждение

Ключевые слова: ALD-технологии

Система OpAL ориентирована на проведение термического ALD. Однако, установка может быть модернизирована для использования плазменного атомно-слоевого осаждения. Возможна обработка пластин диаметром вплоть до 200 мм.

10

PlasmaPro NGP80. Установка для исследовательских работ

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)

Поставщик: Technoinfo Limited

Рубрикатор: Реактивное ионное травление

Ключевые слова: плазмохимическое травление

Компактная система с открытой загрузкой для проведения процессов плазмохимического травления и нанесения, пришедшая на смену отлично зарекомендовавшей себя системе Plasmalab 80plus. Использование PlasmaPro NGP80 позволяет решать как исследовательские задачи, так и организовать мелкосерийное производство. Возможна обработка пластин диаметром вплоть до 200 мм.

2

Nanofab. Система для осаждения наноструктур

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)

Поставщик: ИНТЕК, Technoinfo Limited

Рубрикатор: Синтез наноматериалов

Ключевые слова: наноматериалы, наноструктуры

Системы Nanofab позволяют выращивать нанотрубки и нанопровода в контролируемых процессах с высокой скоростью роста. Наноструктуры выращиваются в местах каталитической активации поверхности подложки.

Ionfab. Система ионно-лучевого травления и осаждения

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)

Поставщик: ИНТЕК, Technoinfo Limited

Рубрикатор: Ионно-лучевая обработка

Ключевые слова: ionfab

Ионно-лучевые системы Ionfab позволяют реализовать как технологии ионно-лучевого травления так и технологии вакуумного осаждения с распылением мишени ионным пучком. Серия Ionfab находит применение в широком спектре приложений микроэлектроники, оптики, нанотехнологии и биомеханики.

Plasmalab 100. Система со шлюзовой загрузкой подложек

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)

Поставщик: ИНТЕК, Technoinfo Limited

Рубрикатор: Реактивное ионное травление, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы

Ключевые слова: plasmalab 100

Plasmalab 100 — системы, которые решают широкий круг задач плазменного травления и осаждения. Обрабатывают пластины до 200 мм. Серия Plasmalab 100 предлагает гибкие и производительные решения для организации исследовательских работ, мелкосерийного и серийного производства.

Plasmalab 133. Система со шлюзовой загрузкой подложек

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)

Поставщик: ИНТЕК, Technoinfo Limited

Рубрикатор: Реактивное ионное травление, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы

Ключевые слова: plasmalab 133

Plasmalab 133 — системы со шлюзовой загрузкой подложек. Спроектированы для проведения процессов плазменного травления и осаждения на пластинах диаметром 300 мм и крупных партиях пластин меньшего диаметра. Серия Plasmalab 133 предлагает гибкие и производительные решения для организации исследовательских работ, мелкосерийного и серийного производства.

Plasmalab 80 plus. Установка для исследовательских работ

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)

Поставщик: ИНТЕК, Technoinfo Limited

Рубрикатор: Реактивное ионное травление

Ключевые слова: plasmalab 80

Малогабаритные системы с открытой загрузкой образцов для проведения процессов плазмохимического травления и осаждения в исследовательских, опытно-конструкторских работах и мелкосерийном производстве. Обрабатывают пластины до 200 мм.

Plasmalab 800 plus. Установка для исследовательских работ

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)

Поставщик: ИНТЕК, Technoinfo Limited

Рубрикатор: Реактивное ионное травление

Ключевые слова: plasmalab 800

Система с открытой загрузкой образцов для проведения процессов плазмохимического травления и осаждения в опытно-конструкторских работах и мелкосерийном производстве. Обрабатывает пластины до 300 мм или партии подложек меньшего размера.

Plasmalab Sputter modules. Система магнетронного напыления

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)

Поставщик: ИНТЕК, Technoinfo Limited

Рубрикатор: Магнетронное напыление

Ключевые слова: plasmalab

Осаждение с магнетронным распылением мишени является одним из стандартных вариантов PVD для микроэлектронных технологий. Позволяет получать слои широкого спектра материалов от металлов до диэлектриков с контролируемой стехиометрией.

2 9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Z А Б В Г Д Е И К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Э ВСЕ