Инструменты нанотехнологий
Сортировать: по рейтингу | по названию | по дате поступления | по популярности
Оборудование
Реактивное Ионное Травление или РИТ (в англоязычном варианте - Reactive Ion Etching или RIE), является разновидностью сухого травления, в которой существенной составляющей процесса является ионная бодбардировка поверхности материала.
Реактивное ионное травление позволяет решить широкий круг задач по изотропному и анизотропному сухому травлению широкого спектра материалов в микроэлектронике, микромеханике и нанотехнологиях.
Производитель: Mantis Deposition (United Kingdom)
Поставщик: Экситон Аналитик, ООО
Рубрикатор: Молекулярно-лучевая эпитаксия, МОС-гидридная эпитаксия, Аналитические системы, Научно-исследовательские комплексы, Синтез наноматериалов, Ионно-лучевая обработка, Магнетронное напыление, Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Атомно-слоевое осаждение, Оборудование планарных технологий
Ключевые слова: молекулярно-лучевая эпитаксия
ООО «Экситон Аналитик» предлагает систему молекулярно-лучевой эпитаксии Mantis Deposition M600 для нанесения тонких пленок.
Производитель: Mantis Deposition (United Kingdom)
Поставщик: Экситон Аналитик, ООО
Рубрикатор: Молекулярно-лучевая эпитаксия, МОС-гидридная эпитаксия, Аналитические системы, Научно-исследовательские комплексы, Синтез наноматериалов, Ионно-лучевая обработка, Магнетронное напыление, Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Атомно-слоевое осаждение, Оборудование планарных технологий
Ключевые слова: молекулярно-лучевая эпитаксия
ООО «Экситон Аналитик» предлагает систему молекулярно-лучевой эпитаксии Mantis Deposition NanoSys500 для выращивания тонких пленок.
Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)
Поставщик: Technoinfo Limited
Рубрикатор: Реактивное ионное травление
Ключевые слова: плазмохимическое травление
Компактная система с открытой загрузкой для проведения процессов плазмохимического травления и нанесения, пришедшая на смену отлично зарекомендовавшей себя системе Plasmalab 80plus. Использование PlasmaPro NGP80 позволяет решать как исследовательские задачи, так и организовать мелкосерийное производство. Возможна обработка пластин диаметром вплоть до 200 мм.
Производитель: SENTECH Instruments GmbH
Поставщик: МИНАТЕХ, ООО
Рубрикатор: Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Оборудование планарных технологий
Ключевые слова: плазменное травление, плазмо-химическое травление, реактивно-ионное травление, микроэлектроника, травление в индуктивно-связанной плазме, ИСП плазма, травление наноструктур
Система травления SI 500 PTSA ICP plasma etcher предназначена для использования в НИОКР для реализации процессов высокоскоростного сухого плазменного травления кремния (в том числе Bosh-процесс), диэлектриков и полупроводниковых структур (особенно III/V и микрооптики) и наноструктур в индуктивно-связанной плазме.
Производитель: SENTECH Instruments GmbH
Поставщик: МИНАТЕХ, ООО
Рубрикатор: Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Оборудование планарных технологий
Ключевые слова: плазменное травление, плазмо-химическое травление, реактивно-ионное травление, микроэлектроника
Система травления RIE Etchlab 200 Plasma Etcher предназначена для использования в НИОКР для реализации процессов сухого плазменного травления.
Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)
Поставщик: ИНТЕК, Technoinfo Limited
Рубрикатор: Реактивное ионное травление, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы
Ключевые слова: plasmalab 100
Plasmalab 100 — системы, которые решают широкий круг задач плазменного травления и осаждения. Обрабатывают пластины до 200 мм. Серия Plasmalab 100 предлагает гибкие и производительные решения для организации исследовательских работ, мелкосерийного и серийного производства.
Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)
Поставщик: ИНТЕК, Technoinfo Limited
Рубрикатор: Реактивное ионное травление, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы
Ключевые слова: plasmalab 133
Plasmalab 133 — системы со шлюзовой загрузкой подложек. Спроектированы для проведения процессов плазменного травления и осаждения на пластинах диаметром 300 мм и крупных партиях пластин меньшего диаметра. Серия Plasmalab 133 предлагает гибкие и производительные решения для организации исследовательских работ, мелкосерийного и серийного производства.
Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)
Поставщик: ИНТЕК, Technoinfo Limited
Рубрикатор: Реактивное ионное травление
Ключевые слова: plasmalab 80
Малогабаритные системы с открытой загрузкой образцов для проведения процессов плазмохимического травления и осаждения в исследовательских, опытно-конструкторских работах и мелкосерийном производстве. Обрабатывают пластины до 200 мм.
Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)
Поставщик: ИНТЕК, Technoinfo Limited
Рубрикатор: Реактивное ионное травление
Ключевые слова: plasmalab 800
Система с открытой загрузкой образцов для проведения процессов плазмохимического травления и осаждения в опытно-конструкторских работах и мелкосерийном производстве. Обрабатывает пластины до 300 мм или партии подложек меньшего размера.
Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)
Поставщик: Technoinfo Limited
Рубрикатор: Реактивное ионное травление
Система с открытой загрузкой образцов для проведения процессов плазмохимического травления и осаждения в опытно-конструкторских работах и мелкосерийном производстве. Является продолжением линейки оборудования с открытой загрузкой, следующим за Plasmalab 800plus. Возможна обработка пластин диаметром вплоть до 300 мм или партии подложек меньшего размера.
На страницу назад
На страницу вперед
© www.rusnanonet.ru 2008-2015. Все права защищены.
Перепечатка материалов сайта разрешается только с активной ссылкой на www.rusnanonet.ru
Нанотехнологическое оборудование. Портал RusNanoNet.ru
