Каталог оборудования - Плазменное травление

Российская национальная нанотехнологическая сеть

Запомнить меня / Регистрация / Забыли пароль?
Поиск
Войти
Регистрация
Написать письмо
Карта сайта

Инструменты нанотехнологий

Главная страница / Каталог оборудования / Список оборудования

Сортировать: по рейтингу | по названию | по дате поступления | по популярности

Оборудование

Плазменное травление

Одним из методов создания микро- и наноструктур и микроэлектронных схем является метод плазменного травления. Плазменное травление (Plasma etching) — метод переноса рисунка фоторезиста на соответствующие слои полупроводниковой структуры. Метод заключается в селективном удалении немаскированных участков фоторезиста - травлении. Сухое травление называют также плазменным травлением. Подразумевается использование в этих методах плазмы в виде газовых разрядов при низком давлении.

Плазменное травление может осуществляться разными методами: ионным травлением и методами реактивного травления.

Mantis Deposition M600. Система молекулярно-лучевой эпитаксии

Производитель: Mantis Deposition (United Kingdom)

Поставщик: Экситон Аналитик, ООО

Рубрикатор: Молекулярно-лучевая эпитаксия, МОС-гидридная эпитаксия, Аналитические системы, Научно-исследовательские комплексы, Синтез наноматериалов, Ионно-лучевая обработка, Магнетронное напыление, Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Атомно-слоевое осаждение, Оборудование планарных технологий

Ключевые слова: молекулярно-лучевая эпитаксия

ООО «Экситон Аналитик» предлагает систему молекулярно-лучевой эпитаксии Mantis Deposition M600 для нанесения тонких пленок.

Mantis Deposition NanoSys500. Система молекулярно-лучевой эпитаксии

Производитель: Mantis Deposition (United Kingdom)

Поставщик: Экситон Аналитик, ООО

Ключевые слова: молекулярно-лучевая эпитаксия

ООО «Экситон Аналитик» предлагает систему молекулярно-лучевой эпитаксии Mantis Deposition NanoSys500 для выращивания тонких пленок.

PlasmaPro NGP80. Установка для исследовательских работ

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)

Поставщик: Technoinfo Limited

Рубрикатор: Реактивное ионное травление

Ключевые слова: плазмохимическое травление

Компактная система с открытой загрузкой для проведения процессов плазмохимического травления и нанесения, пришедшая на смену отлично зарекомендовавшей себя системе Plasmalab 80plus. Использование PlasmaPro NGP80 позволяет решать как исследовательские задачи, так и организовать мелкосерийное производство. Возможна обработка пластин диаметром вплоть до 200 мм.

SI 500 PTSA ICP Plasma Etcher. Установка реактивно-ионного травления в индуктивно-связанной плазме ICP-RIE

Производитель: SENTECH Instruments GmbH

Поставщик: МИНАТЕХ, ООО

Рубрикатор: Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Оборудование планарных технологий

Ключевые слова: плазменное травление, плазмо-химическое травление, реактивно-ионное травление, микроэлектроника, травление в индуктивно-связанной плазме, ИСП плазма, травление наноструктур

Система травления SI 500 PTSA ICP plasma etcher предназначена для использования в НИОКР для реализации процессов высокоскоростного сухого плазменного травления кремния (в том числе Bosh-процесс), диэлектриков и полупроводниковых структур (особенно III/V и микрооптики) и наноструктур в индуктивно-связанной плазме.