Инструменты нанотехнологий
Сортировать: по рейтингу | по названию | по дате поступления | по популярности
Оборудование
Одним из методов создания микро- и наноструктур и микроэлектронных схем является метод плазменного травления. Плазменное травление (Plasma etching) — метод переноса рисунка фоторезиста на соответствующие слои полупроводниковой структуры. Метод заключается в селективном удалении немаскированных участков фоторезиста - травлении. Сухое травление называют также плазменным травлением. Подразумевается использование в этих методах плазмы в виде газовых разрядов при низком давлении.
Плазменное травление может осуществляться разными методами: ионным травлением и методами реактивного травления.
Производитель: Mantis Deposition (United Kingdom)
Поставщик: Экситон Аналитик, ООО
Рубрикатор: Молекулярно-лучевая эпитаксия, МОС-гидридная эпитаксия, Аналитические системы, Научно-исследовательские комплексы, Синтез наноматериалов, Ионно-лучевая обработка, Магнетронное напыление, Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Атомно-слоевое осаждение, Оборудование планарных технологий
Ключевые слова: молекулярно-лучевая эпитаксия
ООО «Экситон Аналитик» предлагает систему молекулярно-лучевой эпитаксии Mantis Deposition M600 для нанесения тонких пленок.
Производитель: Mantis Deposition (United Kingdom)
Поставщик: Экситон Аналитик, ООО
Рубрикатор: Молекулярно-лучевая эпитаксия, МОС-гидридная эпитаксия, Аналитические системы, Научно-исследовательские комплексы, Синтез наноматериалов, Ионно-лучевая обработка, Магнетронное напыление, Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Атомно-слоевое осаждение, Оборудование планарных технологий
Ключевые слова: молекулярно-лучевая эпитаксия
ООО «Экситон Аналитик» предлагает систему молекулярно-лучевой эпитаксии Mantis Deposition NanoSys500 для выращивания тонких пленок.
Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)
Поставщик: Technoinfo Limited
Рубрикатор: Реактивное ионное травление
Ключевые слова: плазмохимическое травление
Компактная система с открытой загрузкой для проведения процессов плазмохимического травления и нанесения, пришедшая на смену отлично зарекомендовавшей себя системе Plasmalab 80plus. Использование PlasmaPro NGP80 позволяет решать как исследовательские задачи, так и организовать мелкосерийное производство. Возможна обработка пластин диаметром вплоть до 200 мм.
Производитель: SENTECH Instruments GmbH
Поставщик: МИНАТЕХ, ООО
Рубрикатор: Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Оборудование планарных технологий
Ключевые слова: плазменное травление, плазмо-химическое травление, реактивно-ионное травление, микроэлектроника, травление в индуктивно-связанной плазме, ИСП плазма, травление наноструктур
Система травления SI 500 PTSA ICP plasma etcher предназначена для использования в НИОКР для реализации процессов высокоскоростного сухого плазменного травления кремния (в том числе Bosh-процесс), диэлектриков и полупроводниковых структур (особенно III/V и микрооптики) и наноструктур в индуктивно-связанной плазме.
Производитель: ООО «ЭСТО-Вакуум» (Россия)
Поставщик: ООО «ЭСТО-Вакуум»
Рубрикатор: Магнетронное напыление, Плазмохимическое травление
Ключевые слова: вакуумное оборудоание, вакуумное напыление, травление, осаждение
ООО «ЭСТО-Вакуум» предлагает серию установок акуумного напыления, травления и осаждения различных материалов Caroline.
Производитель: SENTECH Instruments GmbH
Поставщик: МИНАТЕХ, ООО
Рубрикатор: Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Оборудование планарных технологий
Ключевые слова: плазменное травление, плазмо-химическое травление, реактивно-ионное травление, микроэлектроника
Система травления RIE Etchlab 200 Plasma Etcher предназначена для использования в НИОКР для реализации процессов сухого плазменного травления.
Производитель: Henniker Plasma (Великобритания)
Поставщик: Серния Инжиниринг, ООО
Рубрикатор: Плазмохимическое травление
Ключевые слова: плазменная обработка поверхности, обработка поверхности в вакууме, HPT100, Henniker
ООО «Серния» представляет систему плазменной обработки поверхности в вакууме HPT100 Henniker от компании Henniker Plasma (Великобритания).
Производитель: ООО «ЭСТО-Вакуум» (Россия)
Поставщик: ООО «ЭСТО-Вакуум»
Рубрикатор: Магнетронное напыление, Плазмохимическое травление
Ключевые слова: кластерное оборудование, вакуумное напыление
ООО «ЭСТО-Вакуум» предлагает кластерное оборудование Irida.
Производитель: Nisene Technology Group (США)
Поставщик: Серния Инжиниринг, ООО
Рубрикатор: Плазмохимическое травление
Ключевые слова: декапсуляция, jetetch pro
ООО «Серния» представляет автоматическую систему химической декапсуляции JetEtch Pro от компании Nisene Technology Group.
Производитель: Trion Technology (США)
Поставщик: Серния Инжиниринг, ООО
Рубрикатор: Плазмохимическое травление
Ключевые слова: оборудование, травление, осаждение, плазмохимические процессы
ООО «Серния» представляет Minilock Duo Trion — систему плазмохимического травления и осаждения 2 в 1 от компании Trion Technology (США).
На страницу назад
На страницу вперед
© www.rusnanonet.ru 2008-2015. Все права защищены.
Перепечатка материалов сайта разрешается только с активной ссылкой на www.rusnanonet.ru
Нанотехнологическое оборудование. Портал RusNanoNet.ru
