Инструменты нанотехнологий
Сортировать: по рейтингу | по названию | по дате поступления | по популярности
Оборудование
Метод атомно слоевого осаждения (АСО) получил в последнее время широкое распространение как новый технологический метод, обеспечивающий рост тонких пленок высокого качества на больших площадях подложек. Суть метода заключается в раздельной попеременной подаче реагентов к подложке, так что химические реакции, приводящие к росту пленок, протекают строго с использованием только хемисорбированных слоев, т.е. с исключением реакций в газовой фазе. Использование реакций только в хемисорбированных слоях приводит к уникальным результатам по однородности, воспроизводимости и конформности формируемых слоев.
Традиционно, технология ALD использовалась при производстве полупроводников и дисплеев, но возможность производства высоко конформных тонких пленок без пор даже на сборных объектах пользуется спросом во многих других отраслях. Современный высокий потенциал устройств на базе технологии ALD позволяет осуществлять одновременное покрытие до тысячи объектов в одной партии, таким образом возможно достижение годовой пропускной способности в миллионы металлических, стеклянных и пластиковых объектов.
Производитель: Mantis Deposition (United Kingdom)
Поставщик: Экситон Аналитик, ООО
Рубрикатор: Молекулярно-лучевая эпитаксия, МОС-гидридная эпитаксия, Аналитические системы, Научно-исследовательские комплексы, Синтез наноматериалов, Ионно-лучевая обработка, Магнетронное напыление, Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Атомно-слоевое осаждение, Оборудование планарных технологий
Ключевые слова: молекулярно-лучевая эпитаксия
ООО «Экситон Аналитик» предлагает систему молекулярно-лучевой эпитаксии Mantis Deposition M600 для нанесения тонких пленок.
Производитель: Mantis Deposition (United Kingdom)
Поставщик: Экситон Аналитик, ООО
Рубрикатор: Молекулярно-лучевая эпитаксия, МОС-гидридная эпитаксия, Аналитические системы, Научно-исследовательские комплексы, Синтез наноматериалов, Ионно-лучевая обработка, Магнетронное напыление, Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Атомно-слоевое осаждение, Оборудование планарных технологий
Ключевые слова: молекулярно-лучевая эпитаксия
ООО «Экситон Аналитик» предлагает систему молекулярно-лучевой эпитаксии Mantis Deposition NanoSys500 для выращивания тонких пленок.
Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)
Поставщик: Technoinfo Limited, ИНТЕК
Рубрикатор: Атомно-слоевое осаждение
Ключевые слова: ALD-технологии
Система FlexAL предоставляет уникальные возможности для разработки наноразмерных структур и приборов. FlexAL реализует процессы атомно-слоевого осаждения с удаленной плазмой и термическое ALD в максимально гибкой конфигурации. Возможна обработка пластин диаметром вплоть до 200 мм.
Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)
Поставщик: Technoinfo Limited, ИНТЕК
Рубрикатор: Атомно-слоевое осаждение
Ключевые слова: ALD-технологии
Система OpAL ориентирована на проведение термического ALD. Однако, установка может быть модернизирована для использования плазменного атомно-слоевого осаждения. Возможна обработка пластин диаметром вплоть до 200 мм.
Производитель: Beneq Oy (Финляндия)
Поставщик: НПО «КвинтТех», Бенек (Beneq), ООО
Рубрикатор: Атомно-слоевое осаждение
Ключевые слова: ALD-технологии, атомно-слоевое осаждение
TFS200 — ALD система, предназначенная для исследовательских и опытно-промышленных целей. Позволяет наносить различные покрытия на основе органических и неорганических материалов на плоские подложки и на сложные 3D структуры. В качестве источников реагентов могут использоваться газы, жидкости или твердые материалы.
Производитель: Beneq Oy (Финляндия)
Поставщик: НПО «КвинтТех», Бенек (Beneq), ООО
Рубрикатор: Атомно-слоевое осаждение
Ключевые слова: ALD-технологии, атомно-слоевое осаждение
TFS500 — ALD система, предназначенная для исследовательских и опытно-промышленных целей. Позволяет наносить различные покрытия на основе органических и неорганических материалов на плоские подложки и на сложные 3D структуры. В качестве источников реагентов могут использоваться газы, жидкости или твердые материалы.
Производитель: Arradiance (США)
Поставщик: Остек-ЭК, ООО
Рубрикатор: Атомно-слоевое осаждение
Ключевые слова: атомно-слоевое, осаждение, АСО, настольная, атомно-слоевая эпитаксия
Группа компаний Остек предаставляет настольную систему атомно-слоевого осаждения Arradiance GEMStar XT для нанесения металлических, полупроводниковых и проводящих пленок с исключительными электрическими и барьерными свойствами.
Производитель: Picosun (Финляндия)
Поставщик: Серния Инжиниринг, ООО
Рубрикатор: Атомно-слоевое осаждение
Ключевые слова: P-1000 Pro, Picosun, оборудование для ALD, АСО, atomic-layer deposition, ALD технологии
ООО «Серния» представляет P-1000 Pro Picosun – оборудование для пакетной обработки подложек диаметром до 450 мм для крупносерийного производства в области атомно-слоевого осаждения материалов.
Производитель: Picosun (Финляндия)
Поставщик: Серния Инжиниринг, ООО
Рубрикатор: Атомно-слоевое осаждение
Ключевые слова: P-200 Pro, Picosun, оборудование для ALD, АСО, atomic-layer deposition, ALD технологии
ООО «Серния» представляет P-200 Pro — оборудование для одиночной или пакетной обработки подложек диаметром до 200 мм для серийного производства в области атомно-слоевого осаждения материалов.
Производитель: Picosun (Финляндия)
Поставщик: Серния Инжиниринг, ООО
Рубрикатор: Атомно-слоевое осаждение
Ключевые слова: P-300 Advanced, Picosun, оборудование для ALD, АСО, atomic-layer deposition, ALD технологии, оборудование для крупносерийного производства
ООО «Серния» представляет R-300 Advanced Picosun — оборудование P-серии Picosun для крупносерийного производства в области атомно-слоевого осаждения материалов.
На страницу назад
На страницу вперед
© www.rusnanonet.ru 2008-2015. Все права защищены.
Перепечатка материалов сайта разрешается только с активной ссылкой на www.rusnanonet.ru
Нанотехнологическое оборудование. Портал RusNanoNet.ru
