Инструменты нанотехнологий

Dilase 650. Лазерный литограф

ООО «Интеллект» представляет лазерный литограф Dilase 650 от компании Kloe SA (Франция).

Лазерный литограф Dilase 650 является мощной системой прямой лазерной литографии с высоким разрешением, высокой скоростью записи и возможностью работы даже с очень тонким фоторезистивным слоем.

Установка обеспечивает высокое разрешение по всей пластине диаметром до 6 дюймов посредством постоянного управления динамической траектории моторизованного столика для записи. Специфическая форма пишущего пучка позволяет осуществлять экспонирование большинства фоторезистов с тем же высоким разрешением записи. В дополнение к этому, высокая глубина фокуса лазерного пучка поддерживает это разрешение и гарантирует получение структур с острыми углами на всей рабочей поверхности даже в тонких фоторезистивных слоях.

Система Dilase 650 может быть сконфигурирована, исходя из тех задач Заказчика. Установка является компактной и спроектирована специально для целей быстрого прототипирования фотошаблонов и структур в промышленности и научных исследованиях. Данная система идеально подходит для таких приложений как интегральная оптика, МЭМС, микроэлектроника, микрофлюидика, дифракционная / рефракционная микрооптика и другие структуры высокого разрешения.

Установка Dilase 650 может быть оснащена одним лазерным источником (или двумя) с одним из двух длин волн: или 375 нм (УФ), или 405 нм (фиолет), что позволяет пользователю работать с большинством коммерчески доступных фоторезистов. Лазерный источник зафиксированный, что гарантирует стабильность и повторяемость оптического выравнивания в течение процесса записи.

Применение

  • Микрофлюидика
  • Структурирование поверхности
  • Микроэлектроника
  • Фотоника
  • Высокое аспектное соотношение
  • Микролинзы
  • Микромеханика
  • Серая шкала
  • Дифракционные решетки
Технические характеристики
Характеристика Значение

Разрешение перемещения столика

40 нм – 100 нм

Повторяемость

100 нм

Абсолютная точность позиционирования

3 мкм/100 мм

Ортогональность

< 1 мрад

Гистерезис

Нет

Длина волны лазера

375 или 405 нм

Размер лазерного пучка

1 мкм – 100 мкм

Диаметры пластин

1 мкм – 100 мкм

Толщина пластин

150 мкм – 2 мм

Максимальная линейная скорость записи

> 500 мм/сек

Режимы записи

динамический, сканирующий

Форматы файлов

LWI – GDSII – DXF

Габариты системы

ДхШхВ: 925 х 925 х 1600 мм

Масса системы

650 кг

Информация предоставлена Интеллект, ООО

Отправить сообщение представителю компании

2 9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Z А Б В Г Д Е И К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Э ВСЕ