Инструменты нанотехнологий
Вакуумная установка серии Atis предназначена для нанесения металлических покрытий методом магнетронного распыления, с предварительной ионно-лучевой очисткой, на подложки размером 60х48 мм.
Подложки обрабатываются пошагово. Последовательность обработки задается оператором (например, сначала на все подложки подслой, потом основной слой, либо для каждой подложки подслой и сразу нанесение основного слоя).
Установка снабжается замкнутой системой водяного охлаждения (в обязанность заказчика входит только обеспечение дистиллированной водой).
ПО установки позволяет вести техпроцесс как вручную, путем выдачи команд оператором, так и в автоматическом режиме по введенному рецепту.
Предлагаемое оборудование обеспечивает производительность 40 подложек с двусторонним напылением в смену, например, для структуры Сr-Cu-Cr.
Характеристика | Значение |
Обрабатываемые подложки | 8 подложек в загрузке, размер 60х48 мм |
Тип подложки | Кварц, стекло, кремний, другие |
Распыляемые мишени | Металлы |
Система распыления | Четыре магнетрона для распыления металлов, диаметр мишени 150 мм |
Система очистки подложек | Два линейных ионных источника очистки, с компенсатором ионного заряда |
Размер мишеней | Диаметр 150 мм, толщина 4–6 мм |
Рабочие газы | Аргон, кислород (очистка) |
Высоковакуумная откачка | Криогенный насос |
Форвакуумная откачка | Сухой-безмаслянный насос |
Расчетное энергопотребление | 10 кВт (ориентировочно) |
Расчетная площадь, требуемая для оборудования | 2900 мм х 1700 мм |
Конструкция и комплектация вакуумных установок разрабатывается индивидуально под требования Заказчика.