Инструменты нанотехнологий

Atis. Магнетронная вакуумная установка

Вакуумная установка серии Atis предназначена для нанесения металлических покрытий методом магнетронного распыления, с предварительной ионно-лучевой очисткой, на подложки размером 60х48 мм.

Описание технических решений

  • Установка циклического действия с цилиндрической камерой диаметром 500 мм и высотой 330 мм. Доступ в камеру осуществляется через откидывающуюся верхнюю крышку.
  • Камера оснащена криогенным насосом, обеспечивающим максимально быстрое вакуумирование и быструю откачку паров воды. Форвакуумная откачка осуществляется безмасленным механическим насосом.
  • В камере располагается держатель подложек на 9 позиций, одна из которых предназначена для отпыла магнетронов. Размеры держателя позволяют загружать для обработки до 8 подложек размером 60х48 мм для двустороннего напыления.
  • Для очистки подложек перед покрытием в целях улучшения адгезии установлены два ионных источника очистки линейного типа апертурой 140 мм.
  • Для нанесения подслоя и основного металлического слоя, в камере устанавливаются 4 магнетрона постоянного тока, с диаметром мишени 150 мм.

Подложки обрабатываются пошагово. Последовательность обработки задается оператором (например, сначала на все подложки подслой, потом основной слой, либо для каждой подложки подслой и сразу нанесение основного слоя).

Установка снабжается замкнутой системой водяного охлаждения (в обязанность заказчика входит только обеспечение дистиллированной водой).

ПО установки позволяет вести техпроцесс как вручную, путем выдачи команд оператором, так и в автоматическом режиме по введенному рецепту.

Предлагаемое оборудование обеспечивает производительность 40 подложек с двусторонним напылением в смену, например, для структуры Сr-Cu-Cr.

Основные технические данные
Характеристика Значение
Обрабатываемые подложки 8 подложек в загрузке, размер 60х48 мм
Тип подложки Кварц, стекло, кремний, другие
Распыляемые мишени Металлы
Система распыления Четыре магнетрона для распыления металлов, диаметр мишени 150 мм
Система очистки подложек Два линейных ионных источника очистки, с компенсатором ионного заряда
Размер мишеней Диаметр 150 мм, толщина 4–6 мм
Рабочие газы Аргон, кислород (очистка)
Высоковакуумная откачка Криогенный насос
Форвакуумная откачка Сухой-безмаслянный насос
Расчетное энергопотребление 10 кВт (ориентировочно)
Расчетная площадь, требуемая для оборудования 2900 мм х 1700 мм

Конструкция и комплектация вакуумных установок разрабатывается индивидуально под требования Заказчика.

Информация предоставлена

Отправить сообщение представителю компании

Рубрикатор

Проекты, одобренные РОСНАНО

Все проекты РОСНАНО

Последние поступления

Поиск оборудования

2 9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Z А Б В Г Д Е И К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Э ВСЕ